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よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み : シリコンから半導体をつくり出す! : 微細化の極致 第3版 (図解入門 : How-nual. Visual Guide Book)

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よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み : シリコンから半導体をつくり出す! : 微細化の極致

第3版

(図解入門 : How-nual. Visual Guide Book)

国立国会図書館請求記号
ND371-L122
国立国会図書館書誌ID
028693597
資料種別
図書
著者
佐藤淳一 著
出版者
秀和システム
出版年
2017.12
資料形態
ページ数・大きさ等
232p ; 21cm
NDC
549.8
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資料詳細

著者紹介:

佐藤淳一 京都大学大学院工学研究所修士課程修了。 1978年、東京電気化学(株)(現TDK)入社。 1982年、ソニー(株)入社。一貫して、半導体や薄膜デバイス・プロセスの研究開発に従事。この間、半導体先端テクノロジーズ(セリート)創立時に出向、長崎大学工学部非常勤講師などを経験。 現在、ナノフロン...

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目次

  • 図解入門よくわかる 最新半導体プロセスの基本と仕組み[第3版] CONTENTS

  • はじめに/ 3

  • 第1章 半導体製造プロセスを理解する

  • 1-1 ひとつかみで見る半導体プロセス/ 10

  • 1-2 前工程と後工程の違いとは?/ 13

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書誌情報

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資料種別
図書
ISBN
978-4-7980-5353-0
タイトルよみ
ヨク ワカル サイシン ハンドウタイ プロセス ノ キホン ト シクミ : シリコン カラ ハンドウタイ オ ツクリダス : ビサイカ ノ キョクチ
著者・編者
佐藤淳一 著
第3版
著者標目
佐藤, 淳一, 1954- サトウ, ジュンイチ, 1954- ( 01187810 )典拠
出版年月日等
2017.12