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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 加藤 公彦近藤 博基坂下 満男 他
- シリーズタイトル
- 並列タイトル等
- Control of interfacial structure of high-k/Ge gate stack using radical nitridation
- タイトル（掲載誌）
- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 109(87) 2009.6.19
- 掲載巻
- 109
- 掲載号
- 87