原子間力顕微鏡によるSiとGe表面での原子操作(特集:半導体表面)

掲載誌名: 表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会編 26(6) 2005.6

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資料種別: 記事
タイトル: 原子間力顕微鏡によるSiとGe表面での原子操作
著者・編者: 森田清三
杉本宜昭
大藪範昭他
シリーズタイトル: 特集:半導体表面
著者標目: 森田清三
杉本宜昭
大藪範昭
タイトル（掲載誌）: 表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会編
巻号年月日等（掲載誌）: 26(6) 2005.6
掲載巻: 26
掲載号: 6
掲載ページ: 351～356
掲載年月日（W3CDTF）: 2005-06
ISSN（掲載誌）: 0388-5321
ISSN-L（掲載誌）: 0388-5321
出版事項（掲載誌）: 東京 : 日本表面科学会
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: jpn
NDLC: ZM35
対象利用者: 一般
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z15-379
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 7393833
http://id.ndl.go.jp/bib/7393833
整理区分コード: 632