研究紹介 レーザーアブレーション法により生成したSiナノ細線--酸化による細線径および応力の制御と不純物ドーピング
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CiNii Research
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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 深田 直樹
- 著者標目
- タイトル（掲載誌）
- 応用物理
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 75(12) 2006.12
- 掲載巻
- 75
- 掲載号
- 12
- 掲載ページ
- 1481～1486
- 掲載年月日（W3CDTF）
- 2006-12