電子ビーム蒸着法によ...

電子ビーム蒸着法により作製したMgB2/Ni多層薄膜の磁束ピンニング特性 (特集 MgB2超伝導体の臨界電流特性および材料化の現状と展望)

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電子ビーム蒸着法により作製したMgB2/Ni多層薄膜の磁束ピンニング特性

(特集 MgB2超伝導体の臨界電流特性および材料化の現状と展望)

国立国会図書館請求記号
Z15-388
国立国会図書館書誌ID
9643371
資料種別
記事
著者
米倉 健志ほか
出版者
東京 : 低温工学・超電導学会
出版年
2008
資料形態
掲載誌名
低温工学 = Journal of Cryogenics and Superconductivity Society of Japan 43(8) 2008
掲載ページ
p.360~364
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
米倉 健志
梶田 龍
藤吉 孝則 他
並列タイトル等
Flux pinning properties of multilayered MgB2/Ni thin film prepared by EBE method
タイトル(掲載誌)
低温工学 = Journal of Cryogenics and Superconductivity Society of Japan
巻号年月日等(掲載誌)
43(8) 2008
掲載巻
43
掲載号
8